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E+H CPS76ES水質分析pH/ORP電極

簡要描述:

數(shù)字式pH/ORP組合電極
Memosens CPS76E
E+H CPS76ES水質分析pH/ORP電極
Memosens 2.0組合電極,適用于化工工藝過程和有毒介質測量
Memosens CPS76E是嚴苛工況測量專家,能夠同時進行pH和ORP測量。抗污型參比系統(tǒng),可靠測量重度污染介質和低電導率介質

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數(shù)字式pH/ORP組合電極
Memosens CPS76E

Memosens 2.0組合電極,適用于化工工藝過程和有毒介質測量

E+H CPS76ES水質分析pH/ORP電極

CPS76E.jpg

各類應用中的液體分析

用于液體分析中各類參數(shù)測量的完整的產品系列

環(huán)境保護、穩(wěn)定的產品質量、過程優(yōu)化和安全性 –這些僅僅是液體分析日益重要的部分原因。水、飲料、乳制品、化學品和藥品等液體分析已經成為日常工作。我們?yōu)槟峁嶋H應用經驗和良好的測量技術,完成您的測量任務。從 全面的產品系列中選取合適的儀表,滿足您的過程需求。

Memosens CPS76E是嚴苛工況測量專家,能夠同時進行pH和ORP測量??刮坌蛥⒈认到y(tǒng),可靠測量重度污染介質和低電導率介質。CPS76E采用Memosens 2.0 數(shù)字技術,具有高過程完整性,操作非常簡單。防水防潮設計,允許實驗室傳感器標定,支持擴展數(shù)據(jù)存儲,保存標定參數(shù)和過程參數(shù)。是實施預維護的基礎。

優(yōu)勢
Memosens 2.0支持擴展儲存單元,保存標定參數(shù)和過程參數(shù),能夠更好地進行趨勢識別,為未來實施預維護和改進IIoT工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)服務提供的基礎。

同時測量pH、ORP和rH值(在rH模式中),能夠提供豐富過程信息,是嚴格過程控制的堅實基礎。

可選帶壓參比系統(tǒng),可靠測量易堵塞介質,比如分散液。

電極帶專用離子捕捉阱,有效防止引線和參比系統(tǒng)的毒性擴散,確保長使用壽命。

允許電極倒裝,安裝靈活。

采用非接觸式感應信號傳輸方式,具有高過程安全性。

盡可能縮短生產停機時間,延長了電極使用壽命,降低了運營成本。E+H CPS76ES水質分析pH/ORP電極

支持IIoT工業(yè)物聯(lián)網(wǎng): Memosens 2.0支持擴展存儲單元,保存標定參數(shù)和過程參數(shù),更好地進行趨勢識別,為未來實施預維護和改進IIoT工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)服務提供基礎。

低使用成本:支持實驗室標定,現(xiàn)場在線快速更換電極,盡可能縮短生產停機時間,電極使用壽命更長。

堅固耐用、低維護需求的電極:長毒性擴散路徑或經優(yōu)化的離子捕捉阱,避免參考電極毒性擴散。大面積抗污型PTFE隔膜,避免被介質污染。

玻璃電極可以在整個pH測量范圍內,過程絕壓不超過17 bar (246.5 psi)的條件下測量。在含有氫氟酸的介質中測量時候可選F型玻璃電極,例如在半導體生產中的蝕刻槽。

改進的可選鹽橋功能,確保在低電導率應用場合中能夠可靠測量,例如測量鍋爐給水。

采用非接觸式感應信號傳輸方式,具有高過程信號完整性。


應用領域
化工工藝過程和過程監(jiān)測:

pH值或ORP值快速波動

高濃度毒性介質,比如H2S

通過ATEX、IECEx、CSA C/US、NEPSI、JPN、INMETRO認證,可以在防爆0區(qū)、1區(qū)和2區(qū)中使用。E+H CPS76ES水質分析pH/ORP電極

產品規(guī)格參數(shù)

  • 測量范圍

    ORP: –1 500 to 1 500 mV
    Application B
    • pH: 0 to 14
    Application H
    • pH: 0 to 12

  • 過程溫度

    Application B and H:
    0 to 140 ° C (32 to 284 ° F)
    Version TB:
    0 to 140 ° C (32 to 284 ° F)
    Version TU, TP (pressurized reference):
    0 to 140 ° C (32 to 284 ° F) (140 ° C (284 ° F) for sterilization only)
    maximum 100 ° C (212 ° F) in continuous operation due to increasing
    pressure drop at T> 100 ° C (212 ° F)

  • 過程壓力

    Application B: 0.8 to 14 bar (11.6 to 203 psi) absolute
    Application H: 0.8 to 7 bar (11.6 to 101,5 psi) absolute







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